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長汐晃輔教授がCREST「ナノ物質を用いた半導体デバイス構造の活用基盤技術」領域に採択

2024.09.19学部 大学院

長汐晃輔 教授の研究が、JST 戦略的創造研究推進事業(CREST)「ナノ物質を用いた半導体デバイス構造の活用基盤技術」領域に採択されました。

研究費 JST 戦略的創造研究推進事業(CREST)「ナノ物質を用いた半導体デバイス構造の活用基盤技術」領域
研究課題 ウエハースケールvdWエピタキシーの確立と2D-CMOS 集積化のためのプロセス技術の構築
代表者 長汐 晃輔
期間 2024〜2030年
関連リンク
戦略的創造研究推進事業(CREST):https://www.jst.go.jp/kisoken/crest/index.html