近年、電子デバイスの小型化や産業触媒の高度化により表面界面の理解と制御が重要となっています。材料表面の状態や構造が特性に与える影響を明らかにし、材料の動作原理を解明することを目指しています。特に極表面の分析が可能な放射光軟X線分析、赤外分析を用いて材料が機能する最中を直接調べるオペランド分析に注力しています。主な研究テーマは以下の通りです。

1. 金属薄膜を使った呼気ガスセンサ
2. 合金ナノ粒子の触媒化学
3. 合金表面の微視的な酸化還元メカニズム

1. R. Toyoshima, T. Tanaka, T. Kato, K. Uchida, H. Kondoh, “Origin of the High Selectivity of the Pt–Rh Thin-Film H2 Gas Sensor Studied by Operando Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy at Working Conditions,” J. Phys. Chem. Lett., 13, 8546-8552 (2022).
2. R. Toyoshima, J. Kawai, K. Isegawa, H. Kondoh, A. Junkaew, A. Nakayama, T. Asano, M. Tamura, Y. Nakagawa, M. Yabushita, and K. Tomishige, “Detailed Characterization of MoOx‑Modified Rh Metal Particles by Ambient-Pressure XPS and DFT Calculations,” J. Phys. Chem. C, 125, 4540-4549 (2021).
3. R. Toyoshima, K. Amemiya, K. Mase, H. Kondoh, “Orientation-Dependent Hindrance to the Oxidation of Pd-Au Alloy Surfaces,” J. Phys. Chem. Lett., 11, 9249-9254 (2020).