光田 好孝 教授

所在地 153-8505東京都目黒区駒場 4-6-1 東京大学生産技術研究所 Fe302号室
TEL 03-5452-6300
FAX 03-5452-6301

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研究室 http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/
研究分野 反応性プラズマプロセス、ダイヤモンド、強誘電体

主要研究内容

無機材料を中心とした薄膜形成を行う反応性プラズマプロセスの最適化を目的として,種々の研究に取り組んでいる。プラズマ(気相)中の反応前駆体,プラズマから薄膜成長表面への気相粒子の輸送,到達した気相粒子の表面反応などをそれぞれ測定することにより,プロセスを最適化することを目指している。また,透過電子顕微鏡を用いて原子構造を観測すると同時にで材料のナノ物性を測定することにも取り組んでいる。

主要研究論文

Y. Mitsuda, T. Yamada, T. J. Chuang, H. Seki, R.P. Chin, J.Y. Huang, and Y.R. Shen: "Interactions of deuterium and hydrocarbon species with the diamond C(111) surface", Surf. Sci., 257 (1991) L633-L641
T. Kuzumaki and Y. Mitsuda: "Nanoscale mechanics of carbon nanotube evaluated by nanoprobe manipulation in transmission electron microscope", Jpn. J. Appl. Phys., 45 1A (2006) 364-368
A. Y. Suzuki, K. Nose, A. Ueno, M. Kamiko, and Y. Mitsuda, "High Transparency and Electrical Conductivity of SnO2:Nb Thin Films Formed through (001)-Oriented SnO:Nb on Glass Substrate", Applied Physics Express, 5 (2012) 011103.
Miho Arai, Satoru Masubuchi, Kenji Nose, Yoshitaka Mitsuda, and Tomoki Machida: "Fabrication of 10-nm-scale nanoconstrictions in graphene using atomic force microscopy-based local anodic oxidation lithography", Jpn. J. Appl. Phy., 54 (2015) 04DJ06.