寺嶋 和夫 教授

所在地 113-8656東京都文京区本郷 7-3-1 工学部 4号館 237号室
TEL 04-7136-3799
FAX 04-7136-3798
kazuo[at]terra.mm.t.u-tokyo.ac.jp
kazuo[at]plasma.k.u-tokyo.ac.jp

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研究室 http://www.plasma.k.u-tokyo.ac.jp/
研究分野 先端プラズマ、マイクロ/ナノプラズマ、超臨界流体プラズマ、クライオプラズマ、ダイヤモンド分子

主要研究内容

21世紀のプラズマ科学のニューフロンティア-超微小空間(マイクロ/ナノスペース)における新しいプラズマ材料科学の創生を目指している。現在の主要テーマは以下の通 りである。
1) ピエゾ技術および超微細加工技術を用いた、超微細プラズマの発生、物性、材料プロセシングへの応用
2) 極微小プラズマ励起顕微鏡元素分析装置の開発
3) 高効率プラズマディスプレー用高密度プラズマセル設計
4) プラズマ環境SPMの開発とそのプラズマ-固体ナノ界面 研究への応用
5) 熱プラズマ・ホットクラスター蒸着法の開発とその磁性/オプト/エコエネルギーセラミックス高速エピタキシャル成膜への応用
6) 光化学機能を持つナノ微粒子・ナノコンボジットの光・プラズマプロセスによる創製

主要研究論文

S. Nakahara, S. Stauss, T. Kato, T. Sasaki and K. Terashima: "Synthesis of
higher diamondoids by pulsed laser ablation plasmas in supercritical CO2", J.
Appl. Phys. 109 (2011) 123304
F. Iacopi, J. Choi, K. Terashima, P. Rice and G. Dubois: "Cryogenic plasmas
for controlled processing of nanoporous materials", Phys. Chem. Chem.
Phys.13 (2011) 3634-3637
Y. Noma, J. Choi, H. Muneoka and K. Terashima: "Electron density and
temperature of gas-temperature dependent cryoplasma jet", J. Appl. Phys.
109 (2011) 053303