神原 淳 准教授

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研究分野 プラズマCVD・PVD・溶射、ナノ複合組織制御・結晶成長、エピタキシー

主要研究内容

次世代の材料戦略において、サブミクロン・ナノスケールで発現する特性を、大面積或いは産業応用が見通せる処理量で実現できる、新規プロセスの開発に期待が寄せられています。多様なプラズマの特徴、特にプラズマの特徴的な非平衡性を駆使し、その環境下での材料の生成過程の理解を通じて、これら半ば相反する特性を両立させるプロセスの開発を進めています。このプラズマ材料工学の理念を基軸に、現在は、低圧・熱プラズマの両者の長所を有すると考えられるメゾプラズマに着目した次世代単結晶薄膜太陽電池に資する超高速エピタキシャル厚膜技術の開発と、次世代リチウムイオン電池の負極材として有望なナノ~ミクロのマルチスケール複合構造を有するSi系ナノ粒子の創製を、プラズマ高温蒸気の急冷凝縮に伴うナノ粒子形成過程を多元系に応用したプロセス開発により目指しています。

主要研究論文

K. Iizuka, M. Kambara, and T. Yoshida, “Highly sensitive SnO2 porous film
gas sensors fabricated by plasma spray physical vapor deposition”, Sens.
Actu. B 173 (2012) 455.
L.W. Chen, Y. Shibuta, M. Kambara, and T. Yoshida, “Molecular dynamics
simulation of Si nanoclusters in high rate and low temperature epitaxy”, J.
Appl. Phys. 111 (2012) 123301.
J. Fukuda, M. Kambara, and T. Yoshida, “Low temperature silicon epitaxy
from trichlorosilane via mesoplasma chemical vapor deposition”, Thin Solid
Films 519 (2012) 6759.